Проведено экспериментальное изучение динамики формирования плазмы инертных газов (Ar, He) импульсно-периодического резонансного СВЧ-разряда в диапазоне давлений 1×10-3–10 Торр и подводимой мощности от 100 до 600 Вт. Проведены измерения временных зависимостей падающей и отраженной мощности, а также интегральной интенсивности оптического излучения в фазе пробоя и формирования стационарного состояния. Определены зависимости характерных времен формирования плазмы от рабочих параметров разряда: давления плазмообразующего газа, вкладываемой мощности и скважности импульсов нагрева.
Consideration is given to an experimental study of the dynamics of the plasma formation of inert gases (Ar, He) of a pulse-periodic resonant microwave discharge in the pressure range 1×10-3–10 Тоrr and the supplied HF-power up to 600 W. It was shown that the integral intensity of optical radiation increases with the increase of the HF-power absorbed in the discharge. The time dependences of incident and reflected power, as well as the integral intensity of optical radiation in the phase of breakdown and plasma build up time of a stationary state were measured. The dependences of the typical times of the plasma formation from the operating parameters of the discharge (pressure of plasma gas, input HFpower and the duty cycle of heating) have been obtained.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 36425411
Полученные зависимости времени пробоя от давления показывают, что при превышении давления в ~5×10-3 для аргона (~1×10-2 для гелия) пробой рабочего газа существенно облегчается, и время пробоя уменьшается на порядок. Уменьшение времени пробоя сопровождается увеличением светоотдачи плазмообразующего газа. При этом происходит скачкообразное увеличение поглощаемой мощности до 90–95 %. Увеличение вкладываемой в разряд мощности в широком диапазоне изменений скважности также приводит к уменьшению характерных времен формирования разряда.
При мощностях свыше 300 Вт значения характерных времен при фиксированном значении давления практически неизменны. Увеличение светоотдачи плазмообразующего газа наблюдается при скачкообразном увеличение поглощаемой мощности вплоть до 90–95 % и возрастании плотности генерируемой плазмы, что приводит к уменьшению времени формирования плазмы.
Список литературы
1. Gulyaev K. S., Kasheev A. V., Kovalev A. S., Suetin N. V., Vasilieva A. N. // J. Phys. D. Appl. Phys. 1994. Vol. 27. P. 2349.
2. Daniel Cortázar O., Ana Megía-Macías, Alvaro Vizcaíno-de-Julián // IEEE Transactions on Plasma Science. 2012. Vol. 40. No. 12. P. 3409.
3. Андреев В. В., Волдинер И. А., Корнеева М. А. // Прикладная физика. 2016. № 2. С. 51.
4. Andreev V. V., Vasileska I., Korneeva M. A. // Plasma Physics Reports. 2016. No. 7. P. 699.
5. Zissis G., Kitsinelis S. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2009. Vol. 42. P. 173001.
6. Guest G. Cyclotron Heating of Plasmas – Weinheim: WILEY-VCH Verlag, 2009.
7. Pejovic M. M., Ristic G. S., Karamarkovic J. P. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2002. Vol. 35. P. R91.
8. Moss R. S., Eden J. G., Kushner M. J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2004. Vol. 37. P. 2502.
9. Байсова Б. Т., Струнин В. И., Струнина Н. Н., Худайбергенов Г. Ж. // Журнал технической физики. 2003. Т. 73. Вып. 8. С. 30.
10. Лобаев М. А., Иванов О. А., Исаев В. А., Вихарев А. Л. // Письма в ЖТФ. 2009. Т. 35. № 23. С. 9.
11. Сахаров А. С., Иванов В. А., Коныжев М. Е. // Прикладная физика. 2012. № 6. С. 99.
1. K. S. Gulyaev, A. V. Kasheev, A. S. Kovalev, N. V. Suetin, and A. N. Vasilieva, J. Phys. D. Appl. Phys. 27, 2349 (1994).
2. O. Daniel Cortázar, Ana Megía-Macías, and Alvaro Vizcaíno-de-Julián, IEEE Transactions on Plasma Science 40 (12), 3409 (2012).
3. V. V. Andreev, V. I. Voldiner, and M. A. Korneeva, Prikl. Fiz., No. 2, 51 (2016).
4. V. V. Andreev, I. Vasileska, and M. A. Korneeva, Plasma Phys. Rep., No. 7, 699 (2016).
5. G. Zissis and S. Kitsinelis, J. Phys. D: Appl. Phys. 42, 173001 (2009).
6. G. Guest, Cyclotron Heating of Plasmas (WILEY-VCH Verlag, Weinheim, 2009).
7. M. M. Pejovic, G. S. Ristic, and J. P. Karamarkovic, J. Phys. D: Appl. Phys. 35, R91 (2002).
8. R. S. Moss, J. G. Eden, and M. J. Kushner, J. Phys. D: Appl. Phys. 37, 2502 (2004).
9. B. T. Baysova, V. I. Strunin, N. N. Strunina, and G. J. Chydaibergenov, Technical Physics 73 (8), 30 (2003).
10. M. A. Lobaev, O. A. Ivanov, V. A. Isaev, and A. L. Vicharev, Technical Physics Letters 35 (23), 9 (2009).
11. A. S. Sakharov, V. A. Ivanov, and M. E. Konyzhev, Prikl. Fiz., No. 6, 99 (2012).
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ОБЩАЯ ФИЗИКА
Фещенко В. С., Зяблюк К. Н., Шепелев В. А., Сенокосов Э. А. Дифракция оптического излучения на акустических волнах в алмазе 5
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Андреев В. В., Василеска И., Каряка В. И., Корнеева М. А. Особенности формирования плазмы импульсно-периодического резонансного СВЧ-разряда в инертных газах (Ar, He) при пониженном давлении 11
Балмашнов А. А., Бутко Н. Б., Калашников А. В., Степина С. П., Умнов А. М. Возбуждение ионно-звуковой волны в аксиально-симметричном плазменном образовании 16
Бурдовицин В. А., Золотухин Д. Б., Окс Е. М., Панченко Н. А. Влияние материала изолированного коллектора на параметры плазмы, генерируемой электронным пучком в форвакуумной области давлений 21
Долгов А. Н., Клячин Н. А., Прохорович Д. Е. Одноимпульсная регистрация линейчатого рентгеновского спектра микропинчевого разряда 26
Задириев И. И., Кралькина Е. А., Вавилин К. В., Тараканов В. П., Швыдкий Г. В., Александров А. Ф. Комбинация емкостного высокочастотного разряда и разряда постоянного тока для использования в плазменном ускорителе с замкнутым дрейфом электронов. Часть III. Математическое моделирование 33
Кузнецов В. Е., Сафронов А. А., Васильева О. Б., Дудник Ю. Д., Ширяев В. Н. Инжектор плазмы на базе плазмотрона постоянного тока для низковольтного мощного плазмотрона переменного тока с рельсовыми электродами 38
Мещеряков А. И., Вафин И. Ю. Радиальное распределение и динамика накопления ионов примесей в плазме стелларатора Л-2М 42
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Будтолаев А. К., Либерова Г. В., Хижняк В. И. Повышение чувствительности кремниевых p–i–n-фотодиодов к излучению с длиной волны 1,06 мкм 47
Войцеховский А. В., Горн Д. И., Дворецкий С. А., Михайлов Н. Н. Моделирование зонных диаграмм барьерных структур на основе КРТ 50
Трухачев А. В., Седнев М. В., Трухачева Н. С. Применение индия для формирования низкоомных микроконтактов к контактным слоям арсенида галлия гетероэпитаксиальных QWIP-структур 55
Павлов С. А., Павлов А. С., Максимова Е. Ю., Алексеенко А. В., Павлов А. В., Антипов Е. М. Люминесцентный сенсор на квантовых точках CdSe/CdS/ZnS для анализа I2 в газовых и водно-спиртовых средах 60
ФИЗИЧЕСКОЕ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ
Курашкин С. В., Мартынова О. В., Сумачев К. Э. Измерение профилей концентрации активных центров лазерных сред ИК-диапазона с помощью пироэлектрической камеры 67
Панькин Н. А., Сигачев А. Ф., Луконькина А. С., Чистяков Н. И., Мишкин В. П. Исследование металломатричного композиционного материала Cu-SiC после его термической обработки 71
Ципинова А. Х., Шериева Э. Х. Оценка оптимального размера плоских микрокристаллов галогенида серебра для повышения светочувствительности и разрешающей способности фотопленок 77
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Андрианов Н. А., Панкратьев П. А., Смирнов А. С. Влияние энергии ионов при воздействии азотной плазмы на постоянные токи насыщения HEMT-транзисторов на основе нитридов III группы 82
Гавриш С. В. Влияние условий теплосъема на параметры импульсного газоразрядного источника ИК-излучения 86
Мошкунов С. И., Небогаткин С. В., Подгуйко Н. А., Хомич В. Ю., Шершунова Е. А. Высоковольтный генератор синусоидального сигнала с регулируемой частотой для питания плазменных актуаторов 94
Николаев А. Г., Окс Е. М., Савкин К. П., Фролова В. П., Юшков Г. Ю. Экспериментальный стенд для исследования вакуумного дугового разряда с композитными и газонасыщенными катодами 98
ПЕРСОНАЛИИ
Юбилей Михаила Алексеевича Тришенкова 104
ИНФОРМАЦИЯ
XLVI Международная Звенигородская конференция по физике плазмы и управляемому термоядерному синтезу 105
Правила для авторов 109
C O N T E N T S
PHOTOELECTRONICS
V. S. Feshchenko, K. N. Zyablyuk, V. A. Shepelev, and E. A. Senokosov Diffraction of optical radiation on acoustic waves in the diamond 5
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
V. V. Andreev, I. Vasileska, V. I. Karjaka, and M. A. Korneeva Features of plasma formation of a pulse-periodic resonant microwave discharge in inert gases (Ar, He) under reduced pressure 11
A. A. Balmashnov, N. B. Butko, A. V. Kalashnikiv, S. P. Stepina, and A. M. Umnov Excitation of an ion-acoustic wave in the axial symmetric plasma configuration 16
V. A. Burdovitsin, D. B. Zolotukhin, E. M. Oks, and N. A. Panchenko Influence of the isolated collector material on the parameters of the plasma generated by an elec-tron beam in the forevacuum pressure range 21
A. N. Dolgov, N. A. Klyachin, and D. E. Prokhorovich Single-pulse registration of the linear X-ray spectrum of the micropinch discharge 26
I. I. Zadiriev, E. A. Kralkina, K. V. Vavilin, V. P. Tarakanov, G. V. Shvydkii, and A. F. Aleksandrov Combination of a capacitive high-frequency discharge and a DC discharge for use in a plasma accelerator with a closed electron drift. Part III. Numerical simulation 33
V. E. Kuznetsov, A. A. Safronov, O. B. Vasilieva, Yu. D. Dudnik, and V. N. Shiryaev Plasma injector based on a direct current plasma torch for low-voltage high-power alternating cur-rent plasma torch with rail electrodes 38
A. I. Meshcheryakov and I. Yu. Vafin Spatial distribution and dynamics of impurities accumulation in the L-2M stellarator plasma 42
PHOTOELECTRONICS
A. K. Budtolaev, G. V. Liberova, and V. I. Khizhnyak Increasing the sensitivity of silicon p–i–n-photodiodes to the 1.06 m radiation 47
A. V. Voitsekhovskii, D. I. Gorn, S. A. Dvoretsky, and N. N. Mikhailov Modeling of band diagrams of barrier structures based on CdHgTe 50
A. V. Trukhachev, M. V. Sednev, and N. S. Trukhacheva The use of indium for the formation of low-resistance microcontacts to the contact layers of gallium arsenide heteroepitaxial QWIP structures 55
S. A. Pavlov, A. S. Pavlov, E. Yu. Maksimova, A. V. Alekseenko, A. V. Pavlov, and E. M. Antipov Luminescent sensor with CdSe / CdS / ZnS quantum dots for analysis of I2 in gas and hydroalco-holic media 60
PHYSICAL SCIENCE OF MATERIALS
S. V. Kurashkin, O. V. Martynova, and K. E. Sumachev Measurement of concentration profiles of the active centers in IR-laser media with a pyroelectric camera 67
N. A. Pankin, A. F. Sigachev, A. S. Lukonkina, N. I. Chistyakov, and V. P. Mishkin Investigation of the metal-matrix composite Cu-SiC material after its heat treatment 71
A. Kh. Tsypinova and E. Kh. Sherieva Assessment of the optimal size of flat microcrystals of silver halide to increase the photosensitivity and resolution capability of films 77
PHYSICAL APPARATUS AND ITS ELEMENTS
N. A. Andrianov, P. A. Pankratiev, and A. S. Smirnov Influence of ion energy when exposed to nitrogen plasma on the constant saturation currents of HEMT transistors based on group III nitrides 82
S. V. Gavrish Heat sink conditions influence on pulsed discharge IR radiation source parameters 86
S. I. Moshkunov, S. V. Nebogatkin, N. A. Podguyko, V. Yu. Khomich, and E. A. Shershunova High-voltage sine-wave generator with an adjustable frequency for plasma actuators supply 94
A. G. Nikolaev, Е. М. Oks, K. P. Savkin, V. P. Frolova, and G. Yu. Yushkov Experimental stand for investigation of a vacuum arc discharge with compound and gas-saturated cathodes 98
PERSONALIA
Anniversary Date of M. A. Trishenkov 104
INFORMATION
XLVI International Zvenigorod Conference on Plasma Physics and Controlled Thermonuclear Fusion 105
Rules for authors 109
Другие статьи выпуска
В работе изучалось воздействие плазменной обработки в среде азота на DC-характеристики HEMT-транзисторов. Показано, что падение токов насыщения транзистора в результате плазменной обработки высокоэнергетичными ионами может быть связано с образованием на поверхности GaN cap-слоя транзисторной структуры зарядовых рассеивающих центров, которые приводят к кулоновскому рассеянию носителей в 2DEG канале, что приводит к падению тока насыщения приборов.
Рассмотрен метод синтеза плоских нанокристаллов галогенида серебра на желатиновой матрице методом двухструйной эмульсификации. Полученные кристаллы изучались с помощью атомно-силового микроскопа и оптического микроскопа Velomet. Формирование центров скрытого изображения на кристаллах галогенида серебра связано с наличием дефектов, на которых скапливаются ионы серебра, образуя кластеры. Учтен факт, изменения напряжённости электрического поля кластера с увеличением числа атомов серебра в кластере. Приведены теоретические расчеты длины пробега фотоэлектронов до их захвата центрами скрытого изображения. Сделан вывод о том, что эмульсионные нанокристаллы, размеры которых достигают 25–50 нм, являются наиболее оптимальными с точки зрения светочувствительности и разрешающей способности.
Исследовано влияние твердофазного спекания порошкового материала системы Cu-SiC на его структуру и свойства. Получены данные о коэффициенте теплового расширения, микроструктуре, плотности, пористости и фазовом составе композиционном материале Cu-SiC с различным содержанием карбида кремния.
Предложен и реализован в эксперименте метод измерения профилей концентрации активных ионов в поликристаллическом Cr2+: ZnSe, с использованием пироэлектрической камеры и непрерывного волоконного тулиевого лазера в качестве источника монохроматического излучения на 1,9 мкм. В результате сравнения с методом сканирования остросфокусированным пучком Tm3+: YLF лазера было показано, что оба метода дают близкие результаты при измерении концентрационного профиля в поверочном образце Cr2+: ZnSe, однако предложенный метод обладает большей универсальностью и значительно сокращает время на проведение исследований.
Рассмотрена возможность использования сенсора с трансдьюсером, содержащим квантовые точки на основе полупроводникового коллоидного материала на основе CdSe/CdS/ZnS (квантовые точки) для анализа I2 в газовых и жидких средах, в том числе в продуктах переработки облученного ядерного топлива. Установлен эффект сильного тушения люминесценции квантовых точек молекулярным йодом. Обсуждены возможные причины этого явления. Проведен синтез квантовых точек с полупроводниковой оболочкой с максимумом длины волны люминесценции при 633 нм. Проведена модификация их поверхности органосиланами, что позволило получить высокую фотостабильность, совместимость с водными и водно-спиртовыми средами, а также получить значение квантового выхода люминесценции не ниже, чем для квантовых точек до модификации (85%). Для получения чувствительного элемента квантовые точки были введены в пористую матрицу из фторсодержащего сополимера F-42. Приведена кинетика тушения и разгорания люминесценции в процессе сорбции и десорбции паров йода. Оценена чувствительность метода, которая составила 10-5 мг/л.
Работа посвящена использованию индия для формирования низкоомных микроконтактов к контактным слоям арсенида галлия гетероэпитаксиальных QWIP-структур для изготовления матричного фотоприёмника излучения ИК-диапазона. В технологии изготовления фоточувствительных элементов металлические контакты к контактным слоям GaAs нижнего и верхнего уровней с необходимыми свойствами получают вакуумным напылением никеля и золота с последующим быстрым отжигом при температуре 450 оС в атмосфере водорода. Эта технология включает проведение ряда трудоемких последовательных операций: изготовление фотошаблонов, фотолитография, травление меза-элементов, напыление металлов на два уровня, осуществление которых на тестовых образцах небольших размеров (краевые сегменты пластин) крайне затруднено. В настоящей работе проведено исследование возможности альтернативных способов создания низкоомных контактов к контактным слоям QWIP GaAs/AlGaAs-структур.
В данной статье представлен анализ зонных диаграмм барьерных фоточувствительных структур на основе CdxHg1-xTe (КРТ) для средней и дальней области излучения инфракрасного диапазона, работающих при температурах, близких к комнатным. Целью работы было формирование методики расчёта профилей энергетических зон в подобных структурах, учитывающей особенности реальных структур, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Проведены расчёты зонных диаграмм реальной фоточувствительной структуры на основе КРТ, выращенной методом молекулярно-лучевой эпитаксии в ИФП СО РАН (Новосибирск).
Исследованы возможности повышения уровня чувствительности p–i–n-фотодиодов к излучению с длиной волны λ = 1,06 мкм. Проведён расчёт двухслойного просветляющего покрытия, состоящего из плёнок SiO2 и Si3N4. Представлены результаты эксперимента, проведённого на основании данного расчёта.
В работе представлены результаты наблюдения за динамикой накопления ионов примесей по радиусу в поперечном сечении плазмы стелларатора Л-2М. Наблюдения проводились по четырем хордам путем измерения интенсивности мягкого рентгеновского излучения плазмы. Затем вычислялся фактор превышения рентгеновского излучения экспериментальной плазмы над тормозным излучением чистой водородной плазмы. Вычисления были произведены для двух моментов времени, а именно, в начале и в конце квазистационарной стадии импульса СВЧ-нагрева плазмы. Был сделан вывод о динамике накопления ионов примесей по радиусу поперечного сечения плазмы стелларатора.
Для инициирования дуги трехфазного плазмотрона с рельсовыми электродами разработан инжектор плазмы на основе плазмотронов постоянного тока c торцевым катодом из композитного материала и медным анодом. Поджиг дуги в инжекторе осуществляется с помощью скользящего разряда на поверхности электроизоляционной втулки, расположенной между катодом и дополнительным электродом. Получены вольт-амперные характеристики инжектора в широком диапазоне токов и расходов газа. Описана возможность его работы в составе трехфазного плазмотрона переменного тока с рельсовыми электродами.
Выполнено математическое моделирование гибридного разряда на основе высокочастотного емкостного разряда с постоянной составляющей, помещенного в магнитное поле с преимущественной радиальной компонентой. Геометрия рассмотренного источника плазмы близка к ускорителю с замкнутым дрейфом электронов. Показано, что рядом с активным электродом и на срезе канала возникают квазистационарные скачки потенциала, ускоряющие ионы в сторону активного электрода и в направлении из канала. В области скачков потенциала возникает азимутальный дрейф электронов. Наличие постоянного смещения активного электрода приводит к повышению потенциала плазмы и увеличению энергии ионов на выходе из канала.
Продемонстрирована высокая эффективность диффузионной камеры в качестве детектора мягкого рентгеновского излучения для исследований импульсной высокотемпературной плазмы методами дифракционной спектроскопии высокого разрешения. В виде отдельных линий в спектре излучения низкоиндуктивной вакуумной искры удалось зарегистрировать характеристическое излучение K и K железа и излучение многозарядных ионов FeXVIII FeXXV. Согласно полученным результатам, признаком перехода к радиационному сжатию микропинча является появление в спектре излучения линии иона FeXVIII, что соответствует представлениям модели радиационного сжатия. Получены свидетельства опережающего развития ускорительных процессов по отношению к процессу распада микропинча.
Проведены измерения потенциала изолированного коллектора и параметров пучковой плазмы, генерируемой вблизи коллектора при давлении рабочего газа (аргон) в несколько Па. Установлена связь концентрации плазмы с потенциалом коллектора. Показано, что характер этой связи не зависит от способа изменения потенциала. В установлении потенциала изолированного коллектора решающее значение имеет материал коллектора. При изменении энергии электронов в пучке от 2 до 7 кВ потенциалы коллекторов из меди, титана и нержавеющей стали изменяются от десятков до нескольких сотен вольт, в то время как потенциал алюминиевого коллектора не превышает 100 В. Сформулировано предположение о существенной роли вторично-эмиссионных процессов как в установлении потенциала коллектора, так и в формировании пучковой плазмы.
Установлена причина возникновения устойчивых синфазных НЧ-колебаний в плазменном кольце, формируемом ЭЦР-разрядом в узком коаксиальном резонаторе. Определена зависимость частоты НЧ-колебаний от природы рабочего газа, показывающая, что регистрируемые колебания являются следствием возникновения ионно-звуковой волны, распространяющейся в азимутальном направлении.
В данной работе теоретически исследовано взаимодействие лазерного излучения с длиной волны 650 нм с объёмной звуковой волной в составном акустическом резонаторе на алмазе на частоте 6 ГГц. Построена математическая модель этого взаимодействия и на её основании исследована дифракция Брэгга световой волны в алмазе. Было показано, что угол Брэгга в алмазе при дифракции на звуковой волне с частотой 6 ГГц составляет 6 градусов. Максимальная дифракционная эффективность (при длине взаимодействия света со звуком равной 2 мм и ширине пучка – 1 мм) достигается при акустической мощности 125 Вт. Ширина полосы модуляции звуковой волны в этих условиях равна 191,85 МГц. При уменьшении длины волны оптического излучения до 226 нм удалось расширить ширину полосы модуляции звуковой волны до 520,64 МГц. На основании полученных данных был сделан вывод о том, что полоса пропускания в составном акустическом резонаторе на алмазе лимитируется именно акустооптическим взаимодействием, а не акустоэлектрическим.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400