Исследованы МДП-структуры In/Al2O3/InSb и In/SiOx/АО/InSb методами низкочастотных и высокочастотных C-V характеристик. Диэлектрические слои на поверхности пластин антимонида индия диаметром 2 формировались методами атомно-слоевого осаждения и гибридным способом, включающим анодное окисление и термическое напыление. Были построены карты распределения фиксированного заряда и величины плотности состояний на границе раздела полупроводник-диэлектрик, оценена морфология поверхности. Распределение значений Dit по площади для МДП-структуры In/Al2O3/InSb не превышало 9 %. Средние значения фиксированного заряда, NF, для МДП-структур In/Al2O3/InSb и In/SiOx/АО/InSb составили 1,41011 см-2 и 2,91011 см 2, соответственно. Использование Al2O3, нанесённого методом атомно-слоевого осаждения, может быть использовано для пассивации фотодиодных матриц на основе антимонида индия.
In this work the characterization of MIS structures In/Al2O3/InSb and In/SiOx/anodic oxide/InSb were carried out. The A2O3 dielectric layer were deposited by atomic layer deposition (ALD) method. For second sample we applied combination of dielectrics which include an-odic oxide film and SiOx layer deposited by resistive evaporation method. For both structures we mapped fixed charge and interface trap level over 2 inch InSb wafers. The average value of fixed charge level, NF, for MIS-structures In/Al2O3/InSb and In/SiOx/anodic oxide/InSb were 1.41011 cm-2and 2.91011 cm-2, respectively. The dispersion of Dit values over the wafer in In/Al2O3/InSb MIS structure did not exceed 9 % that confirms feasibility Al2O3 insulators films deposited by ALD as a passivation coating for InSb based photodiode arrays.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- Префикс DOI
- 10.51368/2307-4469-2022-10-2-183-188
В работе были измерены низкочастотные и высокочастотные C-V характеристики МДП-структур на основе антимонида индия с диэлектрическими слоями Al2O3 и гибридного покрытия – анодный оксидированный слой (АО)/SiOx, сформированные методами атомно-слоевого осаждения и термического напыления, соответственно.
Распределение значений Dit по площади пластины диаметром 2 для МДП-структуры In/Al2O3/InSb (образец А) не превышало 9 % при среднем значении 8,91010 (см-2 эВ-1), что значительно лучше, чем для In/SiOx/АО/InSb (образец Б), 2,71011 (см-2 эВ-1) и 20 %, соответственно. Средние значение фиксированного заряда NF для МДП-структур In/Al2O3/InSb и In/SiOx/АО/InSb составили 1,41011 см-2 и 2,91011 см-2, соответственно. Характерный для низкочастотных C-V вид кривой начинает проявляться для образца А с 20 кГц и с 100 кГц для образца Б, что говорит о меньшем количестве ловушек в диэлектрическом слое для образца Б. Полученные результаты подтверждают негативное влияние собственного оксидного слоя на параметры МДП-структур и объясняют лучшие результаты для образца А, т. к. наблюдается положительный эффект от удаления собственного оксидного слоя в процессе атомно-слоевого осаждения A2O3.
Согласно полученным результатам, метод атомно-слоевого осаждения диэлектрических слоев A2O3 может быть эффективно применен для пассивации структур на основе InSb большой площади. Использование данного способа позволяет улучшить электрофизических характеристик МДП-структур на его основе, а также формировать границу раздела с атомарной точностью. При этом пленки окси-да алюминия, сформированные данным способом менее шероховатые, в сравнении с пленками SiOx, что может положительно влиять на величину адгезии наносимых слоев.
Пассивация InSb методом атомно-слоевого осаждения диэлектрическим слоем Al2O3 имеет хорошие перспективы для применения в производственном цикле серийного изготовления матричных фотоприемных устройств на основе антимонида индия за счет малой величины фиксированного заряда, плотности поверхностных состояний и высокой однородности данных свойств по площади пластины.
Список литературы
- Razeghi M. Technology of quantum devices 2010th edition. – New York: Springer, 2009.
- Rogalski A., Kopytko M., Martyniuk P. Anti-monide-based infrared detectors: A new perspective. – Washington: SPIE, 2018.
- Бурлаков И. Д., Болтарь К. О., Мирофянченко А. Е., Власов П. В., Лопухин А. А., Пряникова Е. В., Соловьев В. А., Семенов А. Н., Мельцер Б. Я., Комиссарова Т. А., Львов Т. В., Иванов С. В. // Успехи приклад-ной физики. 2015. Т. 3. № 6. С. 559.
- Mirofianchenko A. E., Mirofianchenko E. V., Lavrentyev N. A., Popov V. S. // Journal of Communications Technology & Electronics. 2021. Vol. 66. Issue 3. P. 354.
- Vasquez R. P. // Journal of Applied Physics. 1981. № 5. P. 3509.
- Mackens U. // Thin Solid Films. 1982. № 1. P. 53.
- Sun T. P., Lee S. C., Liu K. C., Pang Y. M., Yang S. J. // Journal of Applied Physics. 1990. № 7. P. 3701.
- Olcaytug F., Riedling K., Fallmann W. // Electronics Letters. 1980. Vol. 16. P. 677.
- Weiguo S. // Appl. Phys. A. 1991. № 52. P. 75.
- Hou C. H., Chen M. C., Chang C. H., Wu T. B., Chiang C. D, Luo J. J. // Journal of The Electrochemical Society. 2008. Vol. 155. P. 180.
- Marron T., Takashima S., Z. Li, T. Paul Chow // Phys. Status Solidi. 2012. Vol. 9. № 3–4. P. 907.
- Trinh H. D., Chang E. Y., Wu P. W., Wong Y. Y., Chang C. T., Hsieh Y. F., Yu C. C., Nguyen H. Q., Lin Y. C., Lin K. L., Hudait M. K. // App. Phys. Lett. 2010. Vol. 93. P. 042903.
- Chang Y. C., Huang M. L., Lee K. Y., Lee Y. J., Lin T. D., Hong M., Kwo J., Lay T. S., Liao C. C., Cheng K. Y. // Appl. Phys. Lett. 2008. Vol. 92. P. 072901.
- Hinkle C. L., Sonnet A. M., Vogel E. M., McDon-nell S., Hughes G. J., Milojevic M., Lee B., Aguirre-Tostado F. S., Choi K. J., Kim H. C. // Appl. Phys. Lett. 2008. Vol. 92. P. 071901.
- Васильев В. Ю. // Наноиндустрия. 2019. Т. 12. № 3–4. C. 194.
- Mirofyanchenko E. V., Mirofyanchenko A. E., Popov V. S. // Journal of Communications Technology and Electronics. 2022. Vol. 67. Issue 3. P. 313.
- Adar R. // Solid-State Electronics. 1989. № 2. P. 111.
- Кожаринова Е. А., Батырев Н. И., Костышина Л. А., Умникова Е. В. // Успехи прикладной физики. 2017. Т. 5. № 2. C. 174.
- Dewald J. F. // J. Electron. Sot. 1957. Vol. 104. P. 244.
- Etchells A., Fischer C. W. // J. Appl. Phys. 1967. Vol. 47. P. 4605.
- Бакаров А. К., Гутаковский А. К., Журавлев К. С., Ковчавцев А. П., Торопов А. И., Бурлаков И. Д., Болтарь К. О., Власов П. В., Лопухин А. А. // Журнал технической физики. 2017. Т. 87. Вып. 6. C. 900.
- Mori K., Samata S., Mitsugi N., Teramoto A., Kuroda R., Suwa T., Hashimoto K., Sugawa S. // Jpn. J. Appl. Phys. 2020. Vol. 59. P. SMMB06-1.
- M. Razeghi Technology of quantum devices 2010th edition. (New York, Springer, 2009)
- A. Rogalski, M. Kopytko, and P. Martyniuk Anti-monide-based infrared detectors: A new perspective. (Washington, SPIE, 2018).
- I. D. Burlakov, K. O. Boltar, A. E. Mirofyanchenko, P. V. Vlasov, A. A. Lopukhin, E. V. Pryanikova, V. A. Soloviev, A. N. Semenov, B. Ya. Meltzer, T. A. Komissarova, T. V. Lvov, and S. V. Ivanov, Usp. Prikl. Fiz. 3 (6), 559 (2015).
- A. E. Mirofianchenko, E. V. Mirofianchenko, N. A. Lavrentyev, and V. S. Popov, Journal of Communications Technology & Electronics 66, 354 (2021).
- R. P. Vasquez, Journal of Applied Physics, No. 5, 3509 (1981).
- U. Mackens, Thin Solid Films, 1, 53 (1982).
- T. P. Sun, S. C. Lee, K. C. Liu, Y. M. Pang, and S. J. Yang, Journal of Applied Physics 7, 3701 (1990).
- F. Olcaytug, K. Riedling, and W. Fallmann, Elec-tronics Letters 16, 677 (1980).
- S. Weiguo, Appl. Phys. A 52, 75 (1991).
- C. H. Hou, M. C. Chen, C. H. Chang, T. B. Wu, C. D. Chiang, and J. J. Luo, Journal of the Electrochemical Society 155, 80 (2008).
- T. Marron, S. Takashima, Z. Li, and T. Paul Chow, Phys. Status Solidi 9, 907 (2012).
- H. D. Trinh, E. Y. Chang, P. W. Wu, Y. Y. Wong, C. T. Chang, Y. F. Hsieh, C. C. Yu, H. Q. Nguyen, Y. C. Lin, K. L. Lin, and M. K. Hudait, App. Phys. Lett. 93, 042903 (2010).
- Y. C. Chang, M. L. Huang, K. Y. Lee, Y. J. Lee, T. D. Lin, M. Hong, J. Kwo, T. S. Lay, C. C. Liao, and K. Y. Cheng, Appl. Phys. Lett. 92, 072901 (2008).
- C. L. Hinkle, A. M. Sonnet, E. M. Vogel, S. McDonnell, G. J. Hughes, M. Milojevic, B. Lee, F. S. Aguirre-Tostado, K. J. Choi, and H. C. Kim, Appl. Phys. Lett. 92, 071901 (2008).
- V. U. Vasilev, Nanoinustry 12. 194 (2019).
- E. V. Mirofyanchenko, A. E. Mirofyanchenko, and V. S. Popov, Journal of Communications Technology and Electronics 67, 313 (2022).
- R. Adar, Solid-State Electronics 2, 111 (1989).
- E. A. Kozharinova, N. I. Batyrev, L. A. Kostyshina, and E. V. Umnikova, Usp. Prikl. Fiz. 5 (2), 174 (2017).
- J. F. Dewald, J. Electron. Sot. 104, 244 (1957).
- A. Etchells and C. W. Fischer, J. Appl. Phys. 47, 4605 (1967).
- A. K. Bakarov, A. K. Gutakovskii, K. S. Zhuravlev, A. P. Kovchavtsev, A. I. Toropov, I. D. Burlakov, K. O. Boltar, P. V. Vlasov, and A. A. Lopukhin, Tech. Phys. 87, 900 (2017).
- K. Mori, S. Samata, N. Mitsugi, A. Teramoto, R. Kuroda, T. Suwa, K. Hashimoto, and S. Sugawa, Jpn. J. Appl. Phys. 59, SMMB06-1 (2020).
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Лебедев Ю. А., Шахатов В. А.
Разложение СО2 в барьерном разряде атмосферного давления (аналитический обзор) 109
Васильков Д. Г., Терещенко М. А.
О переходных процессах, приводящих к стабилизации плазменного шнура в стеллараторе Л-2М 132
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Попов В. С., Пономаренко В. П., Попов С. В.
Фото- и наноэлектроника на основе двумерных 2D-материалов (обзор)
(Часть III. Фотосенсоры на основе графена, графеноподобных и родственных моноатомных 2D-наноматериалов) 144
Болтарь К. О., Бурлаков И. Д., Яковлева Н. И., Власов П. В., Лазарев П. С.
Задачи импортозамещения и создание современных фотоприемных модулей 170
Мирофянченко А. Е., Мирофянченко Е. В., Лаврентьев Н. А., Малыгин В. А., Ванюшин В. О., Попов В. С.
Диэлектрические покрытия на основе Al2O3 и SiOx для фотодиодных матриц из антимонида индия 183
ФИЗИЧЕСКОЕ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ
Шабловский О. Н., Кроль Д. Г.
Динамика неустойчивости волновых возмущений и боковое ветвление дендрита в переохлажденном расплаве 189
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Кульчицкий Н. А., Наумов А. В., Старцев В. В., Демьяненко М. А.
Неохлаждаемые матричные терагерцовые микроболометрические приемники 203
C O N T E N T S
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
Yu. A. Lebedev and V. A. Shakhatov
Decomposition of CO2 in atmospheric pressure barrier discharge (analytical review) 109
D. G. Vasilkov and M. A. Tereshchenko
On transition processes leading to stabilization of plasma cord in the L-2M stellarator 132
PHOTOELECTRONICS
V. S. Popov, V. P. Ponomarenko, and S. V. Popov
Photo- and nanoelectronics based on two-dimensional 2D-materials (a review)
(Part III. Photosensors based on graphene, graphene-like and related monoatomic 2D nanomaterials) 144
K. O. Boltar, I. D. Burlakov, N. I. Iakovleva, P. V. Vlasov, and P. S. Lazarev
Import replacement and creation of modern photodetector modules 170
A. E. Mirofyanchenko, E. V. Mirofianchenko, N. A. Lavrentiev, V. A. Maygin, V. O. Va-
nyushin, and V. S. Popov
Alumina and silicone oxide dielectric films for focal plane arrays based on InSb 183
PHYSICAL SCIENCE OF MATERIALS
O. N. Shablovsky and D. G. Kroll
Dynamics of instable wave perturbations and lateral dendrite branсhing in an undercooled melt 189
PHYSICAL EQUIPMENT AND ITS ELEMENTS
N. A. Kulchitsky, A. V. Naumov, V. V. Startsev, and M. A. Dem’yanenko
Uncooled matrix terahertz microbolometric detectors 203
Другие статьи выпуска
Продолжается обсуждение вопросов, связанных с развитием детекторов излучения терагерцового диапазона. Рассматриваются методы повышения коэффициента поглощения терагерцового излучения, применяемые при разработке и создании матричных неохлаждаемых микроболометрических приемников ТГц-излучения. Практически полное поглощение ТГц-излучения достигается при использовании:
- антенн, нагруженных на резистивную нагрузку, 2) тонких металлических поглотителей, 3) метаматериалов или частотно-селективных поверхностей, 4) золотой черни и 5) углеродных материалов, в первую очередь, вертикально ориентированных углеродных нанотрубок. В случае антенн и тонких металлических поглотителей, при помощи толстого слоя диэлектрика дополнительно повышается эффективная толщина зазора между отражателем и мембраной болометра, и применяются дополнительные резонаторы, образованные зазором между болометром и входным окном. Для повышения ширины полосы чувствительности применяют болометры инвертированного типа с поглотителями на основе тонких металлических поглотителей.
Изучены эволюционные свойства линии роста свободного дендрита в переохлажденном расплаве чистого вещества. Определены условия морфологической устойчивости / неустойчивости фазовой границы кристаллизации на конечном удалении от вершины дендрита. Для обработки известных в литературе экспериментальных данных о росте кристалла из однокомпонентного переохлажденного расплава предложен параметр роста, который несет информацию о кинетических свойствах фазовой границы кристаллизации и о теплофизических свойствах расплава. Для никеля и меди получены аппроксимирующие функции, определяющие зависимость параметра роста от переохлаждения расплава. Изучены пять вариантов возмущения линии роста, вычислены скорости волн возмущения, распространяющихся по пространственно-неоднородному фону. Указаны ситуации, для которых устойчивость / неустойчивость роста зависит от направления движения волны (к вершине либо от вершины); вычислено пороговое значение ширины зоны неоднородности фона. Определены частоты возбуждающих колебаний и параметр затухания возмущения во времени. Выполнены подробные числовые расчеты, позволившие сопоставить друг с другом свойств дендритного роста для никеля и меди. Дана приближенная аналитическая оценка скорости роста основания боковой ветви.
В последние годы наблюдается быстрое совершенствование изделий фотоники, обусловленное использованием многослойных гетероструктур, выращенных на основе перспективных материалов; конструированием структуры фоточувствительного элемента (ФЧЭ) для достижения минимального темнового тока, что в свою очередь приводит к смене поколений матричных фотоприемных модулей (ФПМ). В работе рассматриваются ФПМ, детектирующие излучение в различных спектральных диапазонах ИК-области спектра: на основе эпитаксиальных структур InSb в диапазоне 3–5 мкм; на основе квантово-размерных QWIP-структур из GaAs/AlGaAs в диапазоне 7,8–9,3 мкм; на основе XBn-структур из InGaAs в диапазоне 0,9–1,7 мкм. Показаны наиболее близкие зарубежные аналоги и определены пути дальнейшего развития.
Описаны механизмы возникновения фотосигналов, архитектура и основные параметры фотосенсоров на основе моноатомных 2D-материалов элементов III, IV, V и VI групп главных подгрупп таблицы Менделеева, таких как графен и графеноподобные материалы, силицен, германен, черный фосфор, твердые растворы черный фосфор-мышьяк, антимонен, висмутен, теллурен, борофен и гетероструктуры, содержащие 2D-материалы, в том числе совместно с другими материалами пониженной размерности, а также фотосенсоры с использованием плазмонных наноантенн.
Исследуются процессы накопления и диссипации энергии в горячей плазме, создаваемой и удерживаемой в тороидальной магнитной ловушке стелларатор Л-2М. Изучаются особенности выхода плазмы на стационарную стадию удержания энергии. Начальная стадия разряда, инициированная СВЧ-импульсом в режиме электронного циклотронного резонансного нагрева плазмы (ЭЦР-нагрева), характеризуется сначала быстрым нарастанием энергии плазмы в течение 1 мс от начала СВЧ-нагрева, а затем быстрым (100 мкс) увеличением энергетических потерь плазмы, регистрируемых по диамагнитному сигналу. Эти процессы приводят к окончанию роста запасенной энергии в удерживаемой плазме. Показано, что свойства данного процесса при неизменной мощности СВЧ-нагрева 400 кВт существенно отличаются для различных значений электронной плотности. Обнаружено, что данный процесс связан в первую очередь с процессами, происходящими в краевой области плазмы, в которой расположен на границе плазменного шнура слой стохастических магнитных поверхностей. Обсуждается возможное влияние на данный процесс не-устойчивостей, возникающих в стохастическом слое, а также взаимодействия приграничной плазмы со стенками вакуумной камеры.
Приведен аналитический обзор результатов исследований разложения углекислого газа в барьерном разряде атмосферного давления. Разложение углекислого газа CO2 в барьерном разряде происходит неравновесных условиях в результате диссоциативного возбуждения молекулы электронным ударом. Установлено, что степень разложения углекислого газа и энергетическая эффективность устройства не превышают 70 % и 23 %, соответственно. Эти параметры зависят от геометрии разряда, от вложенной в разряд мощности, расхода газа, зазора между электродами. Одним из перспективных путей увеличения эффективности барьерного разряда является наполнение зазора между электродами гранулами из различных материалов, включая катализаторы.
Статистика статьи
Статистика просмотров за 2025 год.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400