Статья: Диэлектрические покрытия на основе Al2O3 и SiOx для фотодиодных матриц из антимонида индия (2022)

Читать онлайн

Исследованы МДП-структуры In/Al2O3/InSb и In/SiOx/АО/InSb методами низкочастотных и высокочастотных C-V характеристик. Диэлектрические слои на поверхности пластин антимонида индия диаметром 2 формировались методами атомно-слоевого осаждения и гибридным способом, включающим анодное окисление и термическое напыление. Были построены карты распределения фиксированного заряда и величины плотности состояний на границе раздела полупроводник-диэлектрик, оценена морфология поверхности. Распределение значений Dit по площади для МДП-структуры In/Al2O3/InSb не превышало 9 %. Средние значения фиксированного заряда, NF, для МДП-структур In/Al2O3/InSb и In/SiOx/АО/InSb составили 1,41011 см-2 и 2,91011 см 2, соответственно. Использование Al2O3, нанесённого методом атомно-слоевого осаждения, может быть использовано для пассивации фотодиодных матриц на основе антимонида индия.

In this work the characterization of MIS structures In/Al2O3/InSb and In/SiOx/anodic oxide/InSb were carried out. The A2O3 dielectric layer were deposited by atomic layer deposition (ALD) method. For second sample we applied combination of dielectrics which include an-odic oxide film and SiOx layer deposited by resistive evaporation method. For both structures we mapped fixed charge and interface trap level over 2 inch InSb wafers. The average value of fixed charge level, NF, for MIS-structures In/Al2O3/InSb and In/SiOx/anodic oxide/InSb were 1.41011 cm-2and 2.91011 cm-2, respectively. The dispersion of Dit values over the wafer in In/Al2O3/InSb MIS structure did not exceed 9 % that confirms feasibility Al2O3 insulators films deposited by ALD as a passivation coating for InSb based photodiode arrays.

Ключевые фразы: антимонид индия, атомно-слоевое осаждение, пассивация, диэлектрические покрытия, high-k диэлектрики, термическое напыление, А3B5, МДП-структура, фиксированный заряд, плотность состояний, анодный оксидный слой (АО), АСМ, МФПУ, ФЧЭ, indium antimonide, atomic-layer deposition, passivation, dielectric films, high-k insulators, re-sistive evaporation, A3B5, MOS-structure, fixed charge, density of states, anodic oxide (AO), AFM, FPA, photosensitive elements
Автор (ы): Малыгин Владислав Анатольевич, Попов Виктор, Ванюшин Владислав Олегович
Журнал: УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.592.3. Легированные полупроводники
621.383.522. Фотодиоды с p-n-переходом
Префикс DOI
10.51368/2307-4469-2022-10-2-183-188
Для цитирования:
МАЛЫГИН В. А., ПОПОВ В., ВАНЮШИН В. О. ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ НА ОСНОВЕ AL2O3 И SIOX ДЛЯ ФОТОДИОДНЫХ МАТРИЦ ИЗ АНТИМОНИДА ИНДИЯ // УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ. 2022. ТОМ 10 № 2
Текстовый фрагмент статьи